问题详情：
光刻胶的一种合成路线如下：
已知：
I.
II.
H+CH
CH
RCOOCH=CH2
回答下列问题
(1)A的名称是________________。C中含氧官能团的结构简式是_____________________。C→D的反应类型是______________________。
(2)B和银氨溶液反应的离子方程式为__________________________。
(3)D+G→光刻胶的化学方程式为_______________________________________。
(4)T是C的同分异构体，T具有下列*质或特征：①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴的四*化碳溶液褪*；③属于芳香族化合物。则T的结构有____种。其中核磁共振*谱为5组峰，且峰面积比为1∶1∶2∶2∶2的结构简式为____________(任写一种)。
(5)根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。(合成路线流程图示例如下：CH2=CH2
CH3CH2Br
CH3CH2OH)__ ___________________
【回答】
苯*醛 羧基 取代反应 
CH=CH－CHO+2Ag(NH3)2++2OH－
CH=CH－COO－+2Ag↓+NH4++3NH3+H2O 
5 
CH3CH2OH
CH3CHO
CH3CH=CHCHO
CH3CH2CH2CHOH
CH3CH2CH2COO
H
知识点：烃的衍生物单元测试
题型：推断题